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MOS管的主要參數(shù)及mos管低頻小信號(hào)參數(shù)

信息來(lái)源: 時(shí)間:2020-10-26

MOS管主要參數(shù)-mos管低頻小信號(hào)參數(shù)

大家知道,任何器件在頻率較高的情況下工作時(shí),器件的電容將起顯著的作用。這里所考慮的是指在低頻工作時(shí),MOS管的電容效應(yīng)可以忽略不計(jì),而且輸入信號(hào)又較小。在這種情況下討論的參數(shù),稱為低頻小信號(hào)參數(shù)。

1、MOS管的跨導(dǎo)gm 

MOS管的跨導(dǎo),定義為漏源電壓一定時(shí),漏源電流隨柵源電壓的變化率。MOS管低頻小信號(hào)。換句話說(shuō),就是當(dāng)柵源輸入電壓每變化1V所引起漏源電流的變化量。因此,跨導(dǎo)是表征柵電壓控制輸出電流變化靈敏度的一個(gè)物理量,跨導(dǎo)愈大,控制能力愈強(qiáng),跨導(dǎo)的單位為西門子,符號(hào)為S(A/V)。其數(shù)學(xué)表達(dá)式為:

mos管低頻小信號(hào)

把N溝道MOS管的非飽和區(qū)電流公式代入上式,得:

mos管低頻小信號(hào)

說(shuō)明非飽和區(qū)的跨導(dǎo)是隨著VDS增加而增加的。當(dāng)VDS一定時(shí),gm與VGS無(wú)關(guān)。MOS管低頻小信號(hào)。但實(shí)際上k與VGS是有關(guān)的。因此,隨VGS增加時(shí),gm將出現(xiàn)減小的趨勢(shì)。

把NMOS管飽和區(qū)的漏電流公式代入(1-54)式,便可得飽和區(qū)的跨導(dǎo)為:

mos管低頻小信號(hào)

把(1-56)式和(1-50)式進(jìn)行比較,可以看出,飽和區(qū)的跨導(dǎo)正好是同一柵壓下非飽和區(qū)通導(dǎo)電阻的倒數(shù),即:

mos管低頻小信號(hào)

這是一個(gè)很重要的關(guān)系式,在下面將經(jīng)常用到。

從(1-56)式可見,飽和區(qū)的跨導(dǎo)gm與溝道長(zhǎng)度L和柵氧化層厚度。成反比,與溝道寬度W成正比。若柵氧化層厚度image.png一定,則跨導(dǎo)的大小決定于W/L。為了增大跨導(dǎo),就要使image.png小些。因此,在MOS管的制造工藝中,必須注意柵氧化層厚度的控制。

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一個(gè)MOS管gm的大小,可以從輸出特性曲線上的飽和區(qū)求解出來(lái)。MOS管低頻小信號(hào)。從圖1-32中看出,飽和區(qū)的跨導(dǎo)與VDS無(wú)關(guān),而隨(VGS一VT)的增加而增加。對(duì)于不同的VGS,gm是不同的。在柵壓image.png附近的跨導(dǎo),可根據(jù)定義計(jì)算出來(lái),即:

mos管低頻小信號(hào)

最后還必須指出,跨導(dǎo)還會(huì)受到源極串聯(lián)電阻image.png的影響,當(dāng)image.png較大時(shí),對(duì)器件跨導(dǎo)的影響不能忽略,器件原來(lái)的跨導(dǎo)將減小。mos管低頻小信號(hào),

假設(shè)原來(lái)器件的跨導(dǎo)為image.png若輸入信號(hào)VGS有一個(gè)增量image.png則流過管子的電流必有增量image.png。MOS管低頻小信號(hào)。在圖1-38等效電路的輸入回路中,可以認(rèn)為這個(gè)增量image.png分別降落在溝道和源極串聯(lián)電阻Rs上,即:

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將上式整理:

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即:

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從(1-59)式看到,如果Rs很小,則image.png當(dāng)Rs較大時(shí),跨導(dǎo)要下降很多。因此,為了減小源擴(kuò)散電阻對(duì)跨導(dǎo)的影響,應(yīng)盡量減小Rs。

源擴(kuò)散電阻可用下式計(jì)算:

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2、漏源輸出電導(dǎo)GDS和動(dòng)態(tài)電阻

(1)漏源輸出電導(dǎo) 

當(dāng)循源電壓一定時(shí),漏源電流隨漏源電壓的變化率,就稱為MOS管的電導(dǎo)。mos管低頻小信號(hào),它是用來(lái)表征輸出電壓對(duì)輸出電流的控制能力,用image.png表示,其數(shù)學(xué)表示為:

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gDS的單位仍用西門子(S)。

(2)漏源動(dòng)態(tài)電阻

 漏源輸出電導(dǎo)的倒數(shù)就稱為漏源動(dòng)態(tài)電阻,用image.png表示,這是MOS電路設(shè)計(jì)中另一個(gè)重要參數(shù),其單位為歐姆。數(shù)學(xué)表示式為:

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以前講到,在飽和區(qū),由于溝道夾斷,漏源電流不隨漏源電壓變化,所以動(dòng)態(tài)電阻應(yīng)該是無(wú)窮大,即:

image.png

實(shí)際上,隨著VDS的增大,IDS是略有增加的。MOS管低頻小信號(hào)。因此,飽和區(qū)的動(dòng)態(tài)電阻并不是真的無(wú)窮大,而是趨近于一個(gè)有限值,一般在10~100kΩ的范圍內(nèi)。

在非飽和區(qū),由子VDS很小,溝道沒有夾斷,可以認(rèn)為溝道中各處的厚度相差不多。所以,非飽和區(qū)的動(dòng)態(tài)電阻可近似等于直流導(dǎo)通電阻:

mos管低頻小信號(hào)

3、電壓放大系數(shù)Kv 

電壓放大系數(shù)是用來(lái)描述柵源輸入電壓變化所引起的漏源輸出電壓的變化率,用Kv表示:

mos管低頻小信號(hào)

經(jīng)過變換,可得:

mos管低頻小信號(hào)

可以看出,電壓放大系數(shù)與跨導(dǎo)成正比,跨導(dǎo)愈大,放大性能愈好。按理論分析,飽和區(qū)的動(dòng)態(tài)電阻image.png趨向無(wú)窮大,所以電壓放大系數(shù)也應(yīng)趨于無(wú)窮大。但實(shí)際上飽和區(qū)的動(dòng)態(tài)電阻并不是真的無(wú)窮大,而是個(gè)有限值,所以電壓放大系數(shù)也是有限的。

在非飽和區(qū)(VDS→0),電壓放大系數(shù)為:

mos管低頻小信號(hào)

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